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報報
官口
日曜日
(3) Type of the procurement : Purchase
(4) Basic requirements of the procurement:
A The system must have a wafer transfer
mechanism.
B The system must have a load lock
chamber, and wafer transfer between the
process chamber and the load lock cham-
ber must be possible under vacuum condi-
tions.
C The load lock chamber must have a
wafer cassette, and it must be capable of
automatically processing at least 10 wa-
fers continuously
D The system must be capable of etching
wafers of various sizes, ranging from 20
mm square to a diameter of 8 inches.
E The system must support automated
transfer using wafer cassettes for 4-inch
(JEITA/SEMI),6-inch(JEITA/SEMI),
and 8-inch (notched) wafers
F The system must be able to use at least
chlorine-based, fluorine-based, argon,
oxygen, and nitrogen gases for etching.
G The system must be capable of high-
throughput and anisotropic etching of
hard-to-etch materials such as piezoe-
lectric lithium niobate (LiNbO3: LN)
substrates, lithium tantalate (LiTaO3:
LT) substrates, quartz, and silicon car-
bide (SiC) substrates. Also, when the pat-
tern size is around 100-500 nm, ani-
sotropic etching with a high aspect ratio
must be capable. Reference data must be
submitted
H The plasma used for etching must be
generated at low pressure and must be
high-density
I The process pressure during etching
must be lower
J The bias voltage and plasma density on
the wafer should be independently co-
ntrollable.
K The etching distribution within an 8-
inch wafer should be within 5%
L Process monitoring (endpoint detection
of a process) should be possible by emis-
sion spectroscopy.
M The etching chamber should have a st-
ructure that can be added later.
N The log of various of
the equipment during etching must be
output in a readable format.
O The process recipe must be output in a
readable format
P The control system should be connect-
ed to a LAN, and log files and recipe files
should be exportable via LAN.
(5) Time limit for the submission of the re-
quested material : 17:00 28 April, 2025
(6) The same as the notice above No.24.
資料提供招請に関する公表
次のとおり物品の導入を予定していますので、
当該導入に関して資料等の提供を招請します。
令和7年3月26日
国立大学法人京都大学長湊長博
◎調達機関番号415◎所在地番号26
○第5号
1調達内容
(1)品目分類番号22、31
(2)導入計画物品及び数量消化器・気管支ビ
デオスコープ(リース)一式
(3)調達方法借入
(4)導入予定時期令和7年度10月以降
(5)調達に必要とされる基本的な要求要件
A消化器内視鏡、気管支内視鏡に関連する
スコープで、診断、治療等に対応する最新
機能を備えていること。
B清潔に洗浄・保管できる機器であるこ
と。
C修理・保守・代替品の提供が可能である
こと。
2資料及びコメントの提供方法上記1(2)の物
品に関する一般的な参考資料及び同(5)の要求要
件等に関するコメント並びに提供可能なライフ
ラリーに関する資料等の提供を招請する。
(1)資料等の提供期限令和7年5月12日17時
00分(郵送の場合は必着のこと。)
(2)提供先606-8507京都市左京区聖護院
川原町54京都大学医学部附属病院経理・調
達課契約掛長田井睦之電話075-
751-3025
3説明書の交付本公表に基づき応募する供給
者に対して導入説明書を交付する。
(1)交付期間令和7年3月26日から令和7年
5月12日まで,
(2)交付場所上記2(2)に同じ。
4説明会の開催本公表に基づく導入説明会を
開催する。
(1)開催日時令和7年4月10日10時00分
(2)開催場所京都大学医学部附属病院外来診
療棟5階会議室B
5その他この導入計画の詳細は導入説明書に
よる。なお、本公表内容は予定であり、変更す
ることがあり得る。
6 Summary
(1)Classification of the products to be pro-
cured : 22,31
(2)Nature and quantity of the products to be
rent : Gastrointestinal and Bronchial Video
scope (lease) Set
(3) Type of the procurement : Rent
(4)Basic requirements of the procurement :
A Equipments for endoscopic diagnosis
and treatment of diseases in digestive
system and respiratory system.
B Suitable for sanitary washing and kee-
ping.
C Support endoscopic systems and pre-
pare appropriate substitute if required
(5)Time limit for the submission of the re-
quested material: 17:00 12 May,2025
(6)Contact point for the notice: Nobuyuki
Tai Contract Section, Accounting and Pro-
curement Division, Kyoto University Hos-
pital,54Kawahara-cho Shogoin Sakyo-ku
Kvoto-shi606—8507Japan,TEL075-
751-3025