多目的ドライエッチャー一式の調達に関する公告（第25号）
令和7年3月26日|p.51
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○第25号
1調達内容
(1)品目分類番号24
(2)導入計画物品及び数量多目的ドライエッ
チャー一式
(3)調達方法購入等
(4)第24号に同じ。
(5)調達に必要とされる基本的な要求要件
Aウェハ搬送系を有すること。
B試料交換室を有し、プロセスチャンバと
試料交換室とのウェハのやり取りは、真空
下で行えること。
C試料交換室にはウェハカセットを有し,
自動で10枚以上連続処理ができること。
D20mm角～直径8インチを含む様々な大き
さのウェハに対してエッチング処理ができ
ること。
E4インチ(JEITA/SEMI)、6
インチ(JEITA/SEMI)及び8イ
ンチウェハ(ノッチ)は、それぞれウェハ
カセットを用いて自動搬送に対応するこ
と。
Fエッチングガスは、少なくとも塩素系
フッ素系、アルゴン、酸素及び窒素が使用
できること。
G (LiNb
O3:LN)ウェハ、タンタル酸リチウム
(LiTaO3)ウェハ、石英ウェハ及び
炭化ケイ素(SiC)ウェハなどの難エッ
チング材を高スループットで、異方性エッ
チングできること。また、パターンサイズ
が100～500nm程度の時、高アスペクト比
の異方性エッチングができること。なお、
それぞれの参考データを提出すること。
Hエッチング時のプラズマは低圧で発生
し、かつ高密度であること。
エッチング時のプロセス圧力は、1Pa
以下で行えること。
Jウェハ上のバイアス電圧とプラズマ密度
は、それぞれ独立に制御できること。
K8インチウェハ内のエッチング分布は、
5%以内であること。
L発光分光により、プロセスのモニタリン
グ(エッチング終了検知)ができること。
Mエッチングチャンバは、後に追加できる
構造であること。
Nエッチング時の装置状態である各種測定
値のログは、可読出来る形式で出力できる
とこ
○プロセスレシピは、可読出来る形式で出
力できること。
P制御系はLANに接続でき、ログファイ
ルやレシピファイルがLANを通して出力
できること。
2資料及びコメントの提供方法上記1(2)の物
品に関する一般的な参考資料及び同(5)の要求要
件等に関するコメント並びに提供可能なライフ
ラリーに関する資料等の提供を招請する。
(1)資料等の提供期限令和7年4月28日17時
00分(郵送の場合は必着のこと。)
(2)第24号に同じ。
3説明書の交付本公表に基づき応募する供給
者に対して導入説明書を交付する.
(1)交付期間令和7年3月26日から令和7年
4月28日まで。
(2)交付場所上記2(2)に同じ。
4説明会の開催本公表に基づく導入説明会を
開催する。
(1)開催日時令和7年4月9日11時00分
(2)開催場所オンライン開催とする。(詳細
は、導入説明書による。)
5第24号に同じ。
6 Summary
(1)Classification of the products to be pro-
cured:24
(2)Nature and quantity of the products to be
purchased : Multi-Purpose Dry Etcher 1 Set