KrFステッパ一式の調達に関する公告（第24号）
令和7年3月26日|p.51
左の本文を選ぶと、右側の官報原文画像で該当箇所を照合できます。
(日本医療法第4号(
(1) ) ) 19日 日本
(3)調達方法購入等
(4)導入予定時期
令和7年9月以降
(5)調達に必要とされる基本的な要求要件
Aレチクル上のパターンを縮小投影露光法
によりウェハ上に微細パターンとして露光
できること。
Bウェハ搬送系を有すること。
Cウェハをプリアライメントする機構を有
すること。
Dウェハ上の既存パターンとの位置合わせ
が精密にできること。
Eウェハに対してオートフォーカスできる
こと。
F20m角～直径8インチを含む様々な大き
さのウェハに対して露光できること。ただ
し直径4インチより小さいウェハはこちら
で支給するトレイを用いて露光してもよ
い。
G反りのあるウェハに対して露光できるこ
と。
H透明なウェハに対して露光できること。
1高スループットでウェハに露光できるこ
と。
Jレチクル搬送系を有すること。
K複数枚のレチクルを収納することがで
き、それらの中から露光に必要なレチクル
を自動でセットできること。
L投影縮小率は1/5であること。
M本装置(KrFステッパ一式)用レチ
クルと、本学既存1線ステッパ(キヤノン
(株)製FPA-3030i5+)用レチクルは、
それぞれの装置において相互に使用できる
とこ
2資料及びコメントの提供方法上記1(2)の物
品に関する一般的な参考資料及び同(5)の要求要
件等に関するコメント並びに提供可能なライプ
ラリーに関する資料等の提供を招請する。
(1)資料等の提供期限令和7年4月28日17時
00分(郵送の場合は必着のこと。)
(2)提供先980-8577仙台市青葉区片平
2-1-1東北大学財務部調達課調達第一
係長大友將充電話022-217-4869
3説明書の交付本公表に基づき応募する供給
者に対して導入説明書を交付する。
(1)交付期間令和7年3月26日から令和7年
4月28日まで。
(2)交付場所上記2(2)に同じ。
4説明会の開催本公表に基づく導入説明会を
開催する。
(1)開催日時令和7年4月9日10時00分
(2)開催場所オンライン開催とする。(詳細
は、導入説明書による。)
5その他この導入計画の詳細は導入説明書に
よる。なお、本公表内容は予定であり、変更す
ることがあり得る。
6 Summary
(1)Classification of the services to be re-
quired:24
(2)Nature and quantity of the services to be
required : KrF Stepper 1 Set
(3) Type of the procurement : purchase
(4) Basic requirements of the procurement:
A The system must be able to expose fine
patterns on a reticle to a wafer by reduc-
tion projection exposure method.
B The system should have a wafer trans-
fer system
C The system should have a wafer pre-
alignment system.
D The system must be able to align pat-
terns to be exposed precisely with exist-
ing patterns on a wafer
E The system must be able to focus on a
wafer automatically.
F The system must be able to expose pat-
terns on a wafer of various sizes includ-
ing the range from 20mm square to 8-inch
diameter. A tray provided by the Univer-
sity can be used for the wafer smaller
than 4-inch
G The system must be able to expose pat-
terns on the wafer with warpage.
H The system must be able to expose pat-
terns on transparent wafers
I The system must be able to expose pat-
terns with high-throughput.
J The system should have a reticle trans-
fer system
K The system must be able to stock re-
ticles and to set the selected reticle auto-
matically
L The projection reduction ratio must be
1/5
M The reticles for this system and the
existing i-line stepper (FPA-3030i5+
Canon inc.) must be mutually compatible
and interchangeable between the two sys-
tems.
(5) Time limit for the submission of the re-
quested material : 17:00 28 April, 2025
(6)Contact point for the notice : Masamitsu
Otomo, Procurement Services Office, Fi-
nance Department, Tohoku University,
2-1-1 Katahira Aoba-ku Sendai-shi
980—8577 Japan, TEL022-217-4869