その他令和7年3月25日

四事業適応に対する政策措置に関する指針

掲載日
令和7年3月25日
号種
号外
原文ページ
p.190
出典：官報発行サイト（内閣府）の掲載情報をもとに整理しています。重要な確認は公式原文を基準にしてください。
OCR精度: 低
表・縦書き・固有名詞は抽出結果がずれることがあります。重要な確認は原文画像または PDF を参照してください。

本文と原文の対照

まず左側の本文を読み、必要な箇所だけ原文ページで確認できる構成です。

← 同日の官報に戻る
原文対照の表示オプション

四事業適応に対する政策措置に関する指針

令和7年3月25日|p.190

左の本文を選ぶと、右側の官報原文画像で該当箇所を照合できます。

公式原文あり本文テキスト画像照合可誤りを報告
四事業適応に対する政策措置に関する指針
エネルギー利用環境負荷低減事業適応に
係る事業適応計画にお(1て、産業競争力基
盤強化商品の生産及び販売を行う場合、次
に掲げる事項を遵守することとする。
イ事業適応計画の内容
事業者が事業適応計画117)toて主務大
臣の認定を受ける11当たっては、 次の①
から⑨までのいずれも満たすことを要件
とする。
①エネルギー利用環境負荷低減事業適
応に係る事業適応計画の対象とする設
備投資は、産業競争力基盤強化商品に
関する省令(令和七年経済産業省令第
十六号) 第一号イから二までに掲げる
半導体 (以下 「産業競争力基盤強化半
り組んでいくべきである。
(新設)
(新設)
導体」という。)の生産に係る建物、設
備又はシステム(導入する設備を稼働
させるために直接的に必要となるソフ
トウェアに限る。)を導入するものを対
象とする。
2)①に規定する設備投資においては、
産業競争力基盤強化半導体の生産の用
に供される次の設備のいずれか一つ以
上を整備すること。なお、複数の拠点
で設備投資をする計画の場合は1,st
れの拠点においても、次のいずれか一
つ以上を整備することとする。
(1 フォトレジスト塗布に必要な設備
(2)ウエハー表面への露光(パターン
形成)11必要な設備
(3) エッチングに必要な設備
③①に規定する設備投資においては、
その新規の投資額が総額五十億円以上
であること。
@1①に規定する設備投資によって、事
業適応を行う事業者における産業競争
力基盤強化半導体の生産数量が、直径
二百ミリメートルのウエハーに換算し
て年間一万枚以上増加する計画になっ
ていること。
⑤事業適応を行う事業者の株式の所有
関係及びガ一六ナンスの透明性が確保さ
れていること。
61産業競争力基盤強化半導体につい
て、必要な生産能力を確保するため、
サプライチェーンの信頼性が確保され
ていること。
⑦当該計画に基づき生産される産業競
争力基盤強化半導体が省エネルギーに
貢献するものであることを当該計画に
おいて示すこと。
読み込み中...
四事業適応に対する政策措置に関する指針 - 第190頁
テキスト領域
選択中
非公開 (PII)
関連する新着公告を見逃さないために

Pro プランでは会社名・機関名・キーワードを監視条件として保存し、新着掲載を継続確認できます。14日間無料で試せます。

監視機能の詳細を見る →